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加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置

簡要描述:加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置,全密閉的循環(huán)系統(tǒng)避免了高溫油霧異味和低溫吸收水分的情況,保障了工作環(huán)境不會有刺鼻氣味的產(chǎn)生,也避免了導熱介質吸收了水分后變粘稠黏附在反應釜壁后導致傳熱效果變差。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-155
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-01-08
  • 訪  問  量:774
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航空航天

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸飽系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

型號SUNDI-125
SUNDI-125W
SUNDI-135
SUNDI-135W
SUNDI-155
SUNDI-155W
SUNDI-175
SUNDI-175W
SUNDI-1A10
SUNDI-1A10W
SUNDI-1A15
SUNDI-1A15W
介質溫度范圍-10℃~+200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制10條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW2.53.55.57.51015
制冷量 kW at200℃2.53.55.57.51015
20℃2.53.55.57.51015
-5℃1.52.13.34.269
流量壓力 max
L/min bar
203535505075
222222.5
壓縮機三菱三菱艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G3/4G3/4G1G1G1
水冷型 W
溫度 20度
600L/H
1.5bar~4bar
800L/H
1.5bar~4bar
1000L/H
1.5bar~4bar
1200L/H
1.5bar~4bar
1600L/H
1.5bar~4bar
2000L/H
1.5bar~4bar
外型尺寸(水)cm45*65*12055*68*14555*68*14555*68*14555*100*17570*100*175
外形尺寸 (風)cm50*85*13055*100*17555*100*17555*100*17555*100*17570*100*175
隔爆尺寸(風) cm45*110*13045*110*13045*110*13055*120*17055*120*17055*120*170
正壓防爆(水)cm110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195120*110*195
常規(guī)重量kg115165185235280300
電源 380V 50HZAC 220V 50HZ 3.6kW5.6kW7.5kW10kW13kW20kW

 

 

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加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置

加熱控溫設備-高低溫循環(huán)裝置

  加熱控溫設備,并以導熱油作冷卻介質和反應介質進行了試驗結果表明,冷卻介質流量越大,反應介質溫度上升越緩慢,達到溫度平衡所需時間越短,溫度增量越小。沒有冷卻介質時,反應介質溫度達到平衡約需,溫度升高約冷卻介質流量為時,反應介質溫度達到平衡約需,溫度升高。

  化學是利用超聲能量加速和控制化學反應,提高反應產(chǎn)率和引發(fā)新的化學反應的一門新的學科。加熱控溫設備該技術主要是利用導熱油在化學反應介質液體中產(chǎn)生的空化效應,實現(xiàn)常規(guī)手段所不能實現(xiàn)的化學反應,或加快化學反應速度及減少催化劑的使用量等。而且,在相當長的一段時間內(nèi),反應介質的溫度是隨時間變化的,其結果是無法確定超聲的熱效應即反應介質的溫度變化對相關化學反應過程的影響。

加熱控溫設備必須施加適當?shù)睦鋮s降溫措施,介紹了一些冷卻降溫技術,但其不足之處是以犧牲聲化學反應器的化學反應器不同的是,這里為雙層壁反應槽,冷卻介質通道經(jīng)過專門設計,以利于較大限度地對反應介質進行冷卻降溫。

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